詳細摘要： 簡單介紹：雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基...

詳細摘要： 簡單介紹：雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基...

詳細摘要： 簡單介紹：雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根...

詳細摘要： 簡單介紹：雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基...

詳細摘要： 簡單介紹：磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸3英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍...

詳細摘要： 簡單介紹：磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸3英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍...

詳細摘要： 簡單介紹：小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基板的...

詳細摘要： 簡單介紹：可程控磁控濺射鍍膜儀為單腔室結構，主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉基片臺、光加熱系統、濺射電源、工作氣路、真空獲得系統、安裝機臺、真空測量...

詳細摘要： 簡單介紹：高真空磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。高真空磁控濺射鍍膜儀...

詳細摘要： 簡單介紹：單室磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。單室磁控濺射鍍膜儀可廣泛應...

詳細摘要： 簡單介紹：雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀緊湊型磁控濺射系統，具有雙靶2"目標源，例如，一個直流源用于涂覆金屬薄膜，另一個射頻源用于涂覆非金屬材料。雙靶高真空磁控...

詳細摘要： 簡單介紹：3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是一種三頭1"射頻等離子體磁控濺射系統，設計用于非金屬薄膜涂層，主要用于多層氧化物薄膜。3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是研究新一代氧...

詳細摘要： 簡單介紹：非導電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀是一款緊湊型2英寸單頭射頻等離子磁控濺射系統，涂有非金屬，主要是氧化物薄膜。非導電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀將所有元件集成...

詳細摘要： 簡單介紹：大功率直流磁控濺射鍍膜儀是一款高功率臺式磁控等離子濺射鍍膜機 ，帶有一個水冷2英寸靶頭，冷水機和可旋轉樣品架。大功率直流磁控濺射鍍膜儀設計用于涂覆直徑...

詳細摘要： 簡單介紹：緊湊型直流磁控濺射鍍膜儀是一款臺式磁控等離子濺射鍍膜機，帶有2英寸靶頭，高度可調的樣品架。特別適用于涂覆SEM樣品的導電金膜。緊湊型直流磁控濺射鍍膜儀...

詳細摘要： 簡單介紹：本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。單靶磁控濺射鍍膜儀在鍍膜時，可...

詳細摘要： 簡單介紹：產品簡介：CY-600-3HD三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研制開發的一款性價比較高的磁控濺射鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜...

詳細摘要： 簡單介紹：此款磁控濺射鍍膜儀是依據二級（DC)直流濺射原理設計而成的*簡單、可靠、經濟的鍍膜設備，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導體材料實驗電極的制作...

詳細摘要： 簡單介紹：雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶...